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Si基板上ZnO薄膜のエピタキシャル成長と近紫外レーザ発光デバイス形成の研究
フォーマット:
図書
責任表示:
中西洋一郎研究代表
言語:
日本語; 英語
出版情報:
[静岡] : [静岡大学], [2005.6]
形態:
xxvi, 225 ; 30cm
著者名:
中西, 洋一郎  
シリーズ名:
科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)研究成果報告書) ; 平成13年度-平成16年度 <BA30193701>
書誌ID:
ST00002670
その他の番号:
KAKEN:13450125  OthnKaken
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